上海酸堿廢氣處理裝置 承包環保工程

電子半導體行業酸堿性廢氣處理方法，推薦使用噴淋塔。這是因為半導體制造中產生的酸性和堿性廢氣采用分別收集、分別處理的方法，但處理設備和處理原理基本相同。

對于含有 酸性／堿性物質的廢氣，大都采用大型洗滌式中央廢氣處理系統進行處理。但是，有些情況下，由于半導體制造工作區域離中央廢氣處理系統距離較遠，因此部分酸性／堿性廢氣在輸送至中央廢氣處理系統前，常因氣體特性導致在管路中結晶或粉塵堆積，造成管路堵塞后導致氣體外泄，嚴重者甚至引發爆炸，危害現場工作人員的工作安全。

因此，在工作區域需配置適合制程氣體特性的就地廢氣處理設備進行就地處理，之后再排入中央處理系統，而一些特殊的廢氣，包括劇毒、自燃、易爆等廢氣則需要先通過干式洗滌塔等設備通過吸附或氧化／燃燒等方法就地處理，之后再排人中央廢氣處理系統 。

1、酸堿性廢氣的來源

電子半導體行業中酸堿性廢氣的來源為化學清洗站，具有刺激性及有害人體，故酸堿性廢氣的處理方法一般是以濕式洗滌塔做水處理后再排入大氣。洗滌塔利用床體或濕潤的表面可以去除0.1微米以上的粒子。其氣體與液體的接觸方式有交叉（垂直交叉）流式、同向流式及逆向流式三種，而水流的設計上，有噴嘴式，噴霧式，頸式及拉西環式等四種。

2、以下半導體企業生產過程中產生的廢氣均可處理：

? 集成電路生產企業：主要包括數字集成電路板及模擬集成電路板生產企業。

? 分立器件生產企業：主要包括晶體二極管、三極管，整流二極管，功率二極管、化合物二極管等生產制造企業。

? 光電組件生產企業：包括LED、OLED、LCD、光伏太陽能等的生產制造企業。

由于半導體工藝對操作室清潔度要求*，通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣，因此半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。廢氣排放也以揮發為主。

與半導體制造工藝相比，半導體封裝工藝產生的廢氣較為簡單，主要是酸性氣體、環氧樹脂及粉塵。酸性廢氣主要產生于電鍍等工藝；烘烤廢氣則產生于晶粒粘貼、封膠后烘烤過程；劃片機在晶片切割過程中，產生含微量矽塵的廢氣。

上海酸堿廢氣處理裝置 承包環保工程

酸堿廢氣處理塔由噴淋系統、填料層、除霧裝置、觀檢窗等組成，酸堿廢氣在風機的作用下進入塔體。經過填料層，噴淋裝置噴出的處理藥劑在填料層形成液膜，廢氣與液膜接觸發生化學反應。后續經過多層填料層處理，再經除霧裝置干燥排放，處理后的達到排放要求。