光解廢氣處理設(shè)備--上海惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外，這就是UV光解廢氣處理設(shè)備的工作原理。

利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。

UV光解廢氣處理設(shè)備的特點(diǎn)：

UV光解技術(shù)的特點(diǎn)： 成本低廉，運(yùn)行穩(wěn)定可靠，無需專人看護(hù)，但在廢氣處理的速度上較慢，相比低溫等離子技術(shù)效率偏低。

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時，氣體被迅速擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。 低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。(注：低溫等離子體相對于高溫等離子體而言，屬于常溫運(yùn)行。) 等離子體反應(yīng)區(qū)富含*的物質(zhì)，如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到講解污染物的目的。與傳統(tǒng)的電暈放電形式產(chǎn)生的低溫等離子技術(shù)相比較，等離子體技術(shù)放電密度是電暈放電的1500倍，這就是傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)治理工業(yè)廢氣99%以失敗而告終的原因。

與目前國內(nèi)常用的異味氣體治理方法相比，等離子工業(yè)廢氣處理技術(shù)具有以下特點(diǎn)： 低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用于惡臭氣體治理，具有處理效果好，成本雖然偏高，但運(yùn)行費(fèi)用極低，無二次污染，運(yùn)行穩(wěn)定，操作管理簡便，即開即用等，瞬間就可以處理廢氣，效率高的同時，低溫等離子技術(shù)對環(huán)境的安全系數(shù)要求很高。

UV光解廢氣處理設(shè)備較其他廢氣處理設(shè)備的優(yōu)勢：

1、UV光解即紫外光照射技術(shù)，通過紫外燈管產(chǎn)生的185nm光譜與253.7nm光譜對廢氣成分進(jìn)行照射，分解廢氣中的氧分子產(chǎn)生臭氧，利用臭氧對廢氣進(jìn)行氧化分解的技術(shù)。該技術(shù)主要用于殺菌、消毒等工況。

2、主體設(shè)備配置不同： UV光解設(shè)備內(nèi)部組成主要由紫外燈管、活性炭纖維過濾層組成。

3、去除能力不同：

UV光解產(chǎn)生臭氧氧化能力為1.24eV，只能氧化小部分廢氣組分。

4、使用壽命不同：

UV光解紫外燈管及電源(進(jìn)口產(chǎn)品)8000小時。活性炭纖維層根據(jù)廢氣濃度的不同更換比較頻繁。

5、裝備化應(yīng)用安全防控措施不同：

UV光解主機(jī)設(shè)備基本無安全防控措施。

6、設(shè)備長周期運(yùn)行的保障措施不同：

UV光解主機(jī)內(nèi)部光量子管長周期運(yùn)行后管壁掛附的結(jié)焦物無在線清洗措施，影響設(shè)備的運(yùn)行及去除效率。

7、一次性投資及能耗不同：

1)UV光解一次性投資略低。

2)UV光解能耗低。

光解廢氣處理設(shè)備--上海采用高能紫外線光束與空氣、TiO2反應(yīng)產(chǎn)生臭氧，利用高能紫外線光束，使空氣中產(chǎn)生大量的自由電子，這些電子大部分能被氧氣所獲得，形成負(fù)氧離子，負(fù)氧離子不穩(wěn)定，很空易失去一個電子而變成活性氧（臭氧），臭氧是高級氧化劑，可以氧化分解有機(jī)物和無機(jī)物，對苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯、醇類、酯類等高分子物質(zhì)，都可以與臭氧發(fā)生反應(yīng)，在臭氧的作用下，這些惡臭氣體由大分子物質(zhì)被分解為小分子物質(zhì)，直至礦化。紫外光束在TiO2催化下產(chǎn)生·OH(羥基自由基)，該物質(zhì)電位高于臭氧，是一種更強(qiáng)的氧化劑，對高分子氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使其鏈結(jié)構(gòu)斷裂，使惡臭氣體及高分子物質(zhì)轉(zhuǎn)化為無臭味的小分子化合物，生水和二氧化碳。●  適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)絕大部分高中低濃度，廣泛應(yīng)用于：印刷廢氣、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站、污水泵房等氣體的脫臭滅菌凈化處理。

●  高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）及硫化氫、氨氣等無機(jī)物類污染物，各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)99%以上，脫臭效果大大優(yōu)于國家頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）．

●  運(yùn)行成本低：本設(shè)備無任何機(jī)械裝置，無運(yùn)動噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查維護(hù)，維護(hù)和能耗低，風(fēng)阻極低，可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。

●  安全可靠：因采用光解原理，模塊采取隔爆處理，消除了安全隱患，防火、防爆、防腐蝕性能高，設(shè)備性能安全穩(wěn)定，特別適用于高濃度易燃易爆廢氣的場合。

●  無需預(yù)處理：有機(jī)氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在2-13范圍均可正常工作，無需添加其他物質(zhì)及藥劑參與處理。

●  配置安裝靈活：可根據(jù)風(fēng)量及氣體濃度的大小，靈活配置光解氧化模塊的個數(shù)，采用抽屜式插拔安裝形式，配件統(tǒng)一、安裝及維護(hù)方便。備件可在線維護(hù)和更換方便靈活。